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各種因素對氧化膜硬度和生長速度的影響
文章出處:新聞中心
責(zé)任編輯:東莞市寶富五金有限公司
發(fā)表時(shí)間:2018-07-26
鋁和鋁合金表面上能否生成優(yōu)質(zhì)的硬質(zhì)氧化膜層,主要取決于電解液的成份濃度,溫度,電流密度,及其原材料的成分。
電解液的濃度
采用硫酸電解液進(jìn)行硬質(zhì)陽極氧化時(shí),一般在10%~30%濃度范圍內(nèi),濃度低時(shí),氧化膜硬度高,特別是純鋁比較明顯,但對銅含量較高的鋁合金(CY12)例外。因?yàn)楹~量較高的鋁合金易生成CuAl2的化合物,這種化合物在氧化時(shí)溶解速度較快,極易燒毀鋁零件。所以一般不適合用低濃度的硫酸電解液,必須在高濃度(H2SO4在300~400g/L)中進(jìn)行氧化處理或采用交直流電疊加法處理。
溫度對膜層的影響
電解液溫度對氧化膜的耐磨性影響極大,一般來說,如果溫度下降,那么鋁和鋁合金的陽極氧化膜耐磨性能就增高,這是由于電解液對于膜的溶解速度下降所造成的,為了獲得較高硬度的氧化膜。我們要掌握溫度在±2℃范圍內(nèi)進(jìn)行硬質(zhì)陽極氧化處理為好。
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